DSX2000 数码显微镜:“一键切换”,适配半导体多材质观测需求
在半导体制造中,不同环节涉及的检测对象材质差异较大——从透明的光刻胶、绝缘的介质层,到金属互联层、不透明的晶圆载体,传统显微镜往往需要频繁更换物镜或调整光学模式,不仅耗时,还易因操作误差影响检测精度。奥伟登DSX2000数码显微镜,以 “多模式快速切换” 与 “高画质成像” 为核心优势,有效解决这一痛点。
该产品搭载创新的 “智能光学系统”,支持明场、暗场、微分干涉相差(DIC)、偏振光等多种观测模式一键切换,无需手动更换部件,即可快速适配半导体不同材质的观测需求。同时,DSX2000配备4K超高清成像单元,结合专业级色彩还原技术,能捕捉纳米级细节,为缺陷识别提供精准依据。
更值得关注的是,DSX2000内置 “自动化检测流程”,可预设不同检测场景的参数(如放大倍率、照明强度、观测模式),新手操作也能快速上手;支持与半导体工厂的检测系统联动,检测数据可直接导出为标准化报告,大幅提升检测效率,适配量产场景下的高频次检测需求。
OLS5100 3D测量激光显微镜:“三维洞察”,破解半导体微观形貌分析难题
奥伟登OLS5100 3D测量激光显微镜,以 “超高精度三维成像” 为核心,为半导体三维微观分析提供 “可视化解决方案”。
OLS5100采用激光共聚焦技术,通过逐点扫描的方式获取样本的纵向光学切片,再经软件重构生成三维立体图像,能精准测量焊点的高度差、封装胶体的表面平整度,以及半导体材料的表面粗糙度。
此外,OLS5100具备 “高速扫描” 与 “自动化分析” 功能——较传统共聚焦设备效率提升2倍;内置的三维分析算法可自动计算体积、面积、粗糙度等参数,避免人工测量的主观误差,为半导体制造的 “标准化品控” 提供数据保障。
BXC 显微镜组件:“稳定耐用”,适配半导体洁净车间严苛环境
半导体洁净车间对设备的 “洁净度、抗干扰性、长期稳定性” 有着较高要求——不仅要耐受频繁的消毒擦拭,还要避免与高频生产设备产生电磁干扰,同时需支持24小时连续运转。奥伟登BXC显微镜组件,以 “工业级耐用设计” 与 “高适配性”,成为半导体量产车间的 “可靠伙伴”。
在硬件设计上,BXC采用防腐蚀、防静电材料,表面经过特殊涂层处理,可耐受洁净车间常用的异丙醇擦拭,避免设备表面残留污染物影响晶圆检测;内部电路采用抗电磁干扰设计,即使与光刻机、离子注入机等高频设备同场使用,也能保持成像稳定,无信号干扰;关键部件如载物台、物镜转盘经过10万次以上的磨损测试,长期高频率操作仍能保持微米级定位精度,降低设备维护成本。
在功能适配性上,BXC支持灵活的模块化扩展——可搭载高灵敏度相机实现荧光成像,用于半导体材料的荧光标记检测;也可接入自动化载物台,实现晶圆样本的自动移动与多区域检测,适配量产场景下的 “无人值守” 需求。
半导体产业的每一次突破,都离不开对微观世界的精准掌控;而奥伟登的每一款产品,都致力于让 “微观观测” 更高效、更精准、更便捷。第十三届半导体设备与核心部件及材料展,既是行业技术交流的平台,更是创新合作的契机。奥伟登(Evident)期待在无锡太湖国际博览中心B1-221B展位与您相遇,以百年光学科技为基,以诸多解决方案为桥,携手探索微观检测赋能半导体制造的更多可能,共同推动全球半导体产业迈向更高精度、更高效率的新未来!
关于我们
每一项发现,都始于对未知的探索。一个多世纪以来,作为奥林巴斯(Olympus),我们在显微技术领域不断突破卓越光学的边界,助力全球顶尖科学家、医师工、程师观察得更细致、了解得更透彻、成就得更卓越。
如今,作为奥伟登(Evident),我们传承这份积淀,继续致力于突破探索的极限。科学创新是我们工作的核心——以光学技术照亮未知领域。我们的先进成像平台融合享誉世界的光学技术与前沿数字化创新,助您从观察到洞察,每一步都笃定前行。无论是推动新疗法研发、确保产品完整性,还是探索未知领域,奥伟登(Evident)打造的智能易用的成像工具,都将助您预见未来。
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