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亚洲工业网讯： 全球最大芯片光刻设备市场供货商阿斯麦(ASML)近日公布2017第二季财报。ASML第二季营收净额21亿欧元，毛利率为45%。在第二季新增8台EUV系统订单，让EUV光刻系统的未出货订单累积到27台，总值高达28亿欧元。
预估2017第三季营收净额约为22亿欧元，毛利率约为43%。因为市场需求和第二季的强劲财务表现，ASML预估2017全年营收成长可达25%。
ASML总裁暨执行长温彼得指出:“ASML今年的主要营收贡献来自内存芯片客户，尤其在DRAM市场需求的驱动下，这部分的营收预估将比去年成长50%，而来自逻辑芯片方面的营收也可望成长15%。除了DUV光刻系统的业务持续成长，在EUV光刻系统部分，未出货订单累积金额在第二季已经累积到28亿欧元，显示不论逻辑芯片和DRAM客户都积极准备将EUV导入芯片量产阶段。”
此外，ASML近年来积极推行系统升级业务，该部分的营收贡献可望在今年成长20%。“综合市场和各业务领域的捷报，我们认为成长动能将延续到2018年，”温彼得说。
二季度的营收主力，EUV表现亮眼
作为为数不多的芯片光刻设备供应商，唯一一家EUV设备提供商，ASML在刚过去的一个季度表现非常亮眼，主要体现在以下几个方面：
（1）深紫外光(DUV)光刻
ASML推出最新浸润式光刻系统TWINSCAN NXT:2000i，具备多项硬件技术创新，让客户得以在7奈米和5奈米制程节点上，同时用浸润式光刻和EUV系统进行量产，并达到2.5奈米的迭对精度。另一方面，3D NAND客户对于KrF干式光刻系统的需求持续升高，目前TWINSCA NXT:860的未出货订单已累积超过20台。TWINSCA NXT:860系统的生产力可达到每天曝光5,300片晶圆。
（2）全方位光刻优化方案
本季开始出货最新的Yield Star 375F量测系统，具备最新的光学技术，可更快、更精准的获取量测结果。
（3）极紫外光光刻
在荷兰总部已经成功将升级的EUV光源整合进NXE:3400B系统中，并达成每小时输出125片晶圆的生产力指标。至此，ASML的EUV系统已经成功达成所有计划中的关键效能指标，下一阶段，ASML将专注于达成满足客户在量产时所需的相关妥善率(availability)指标，并持续提升系统生产力。
在第二季当中，ASML也完成了对德国卡尔蔡司旗下蔡司半导体(Carl Zeiss SMT)24.9%的股权收购，以进一步深化双方的策略伙伴关系，共同发展下一代EUV光刻系统。
展望2017年第三季，ASML预估整体销售净额可达22亿欧元，毛利率约落在43%，其中包含约3亿欧元的EUV营收认列。研发投资金额提高到3.15亿欧元，其他收入部份(包括来自于客户共同投资计划的收入)约为2,400万欧元，而管销费用(SG&A)支出则约1.05亿欧元，年化税率约14%。ASML预计在第三季会有另外3台NXE:3400B EUV光刻系统完成出货。
ASML：现代芯片不可或缺的支持者
阿斯麦公司ASML Holding NV创立于1984年，是从飞利浦独立出来的一个半导体设备制造商。前称ASM Lithography Holding N.V.，于2001年改为现用名，总部位于荷兰费尔德霍芬，全职雇员12,168人，是一家半导体设备设计、制造及销售公司。
阿斯麦公司为半导体生产商提供光刻机及相关服务，TWINSCAN系列是目前世界上精度最高，生产效率最高，应用最为广泛的高端光刻机型。
目前全球绝大多数半导体生产厂商，都向ASML采购TWINSCAN机型，例如英特尔，三星，海力士，台积电，联电，格芯及其它半导体厂。随着摩尔定律的发展，芯片走向了7nm以下，这就需要更高级的EUV光刻系统，全球只有ASML的NXE:3400B能够满足需求。
ASML的光刻机怎样帮芯片助力？我们可以看一下ASML官方的介绍：
简单来说，我们制造的光刻设备是一种投影系统。这个设备由50000个零件组装而成。
实际使用过程中，则通过激光束被投穿过一片印着图案的蓝图或光掩模，光学镜片将图案聚焦在有着光感化学涂层的硅晶圆上，当未受曝光的部分被蚀刻掉时，图案随即显现…
此制程被一再重复，用以在单个芯片上制造数以十亿计的微型结构。晶圆以2纳米的精准度互相叠加，并加速移动，快如闪电，达到这种精确度可谓高科技，要知道，即使头发丝也有十万纳米，2纳米的精细可想而知。
未来，只有他的EUV光刻机能够帮助芯片接续微缩，因此这些设备纵使卖到上亿欧元，都能被客户所接受。
